摩尔定律的延续已成为一个巨大挑战，英特尔CEO Brian Krzanich给出的解决方案是——一种新的技术extreme ultraviolet lithography（EUV，极紫外线光刻技术），可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。

　　荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，为推动该技术的研发，在去年的夏天英特尔向其注资41亿美元。

　　虽然在芯片创新的路上存在无数的挑战和障碍，但是英特尔一直没有停止过自己的脚步：上月中旬，英特尔在IDF上展示了在PC上运行的14nm Broadwell CPU。日前，英特尔CEO称，由于生产问题，下一代Broadwell处理器将被推迟至明年发布。

　　另外，英特尔计划在2015年采用10 nm的晶体管，而到了2017年达到7 nm，这些都是出奇的小。相比较而言，人身上的血细胞是7000 nm，而一个DNA链为2.5 nm。

　　英特尔目前还未过多的谈论EUV光刻技术，可能涉及竞争的原因等，但是，如果该技术被得以大范围采用并推向市场，那么7 nm芯片等都也将成为可能。